BAO Mask Avenger 最新版 v2.7.1

   BAO Mask Avenger最新版是很容易操作且使用范圍很廣泛的AE高級(jí)遮罩腳本，BAO Mask Avenger電腦版可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點(diǎn)，同時(shí)在三維空間做路徑動(dòng)畫。BAO Mask Avenger軟件可以控制Mask(遮罩)的頂點(diǎn)及切線，還可以為頂點(diǎn)添加3D模式(Z軸)，對(duì)頂點(diǎn)添加表達(dá)式控制。

軟件特色

      拉姆預(yù)覽保護(hù)。以前版本的最大問題是Ram預(yù)覽無效

      通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點(diǎn)。

      3D面具。 BAO Mask Avenger最新版現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無需使用空?qǐng)D層和表達(dá)式。

      然后更快地計(jì)算掩模，并簡化表達(dá)式寫入。

      背景烘焙。當(dāng)需要修改蒙版時(shí)，蒙版復(fù)仇者會(huì)立即對(duì)其進(jìn)行轉(zhuǎn)換

      當(dāng)前時(shí)間，并在后臺(tái)烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作

      而面具復(fù)仇者正在忙著烘焙。這取代了?Dynamic?和?bake?模式。

      更好地塑造層兼容性。與“動(dòng)態(tài)”模式相關(guān)的錯(cuò)誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。

      工作區(qū)和圖層的持續(xù)時(shí)間不再影響Mask Avenger的計(jì)算速度。當(dāng)然，

      烘焙100,000個(gè)關(guān)鍵幀需要超過10個(gè)，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作

      而它正在烘烤。

      不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運(yùn)行速度更快。

      面具預(yù)覽。 Mask avenger 2.0有一個(gè)預(yù)覽系統(tǒng)，可以動(dòng)態(tài)地顯示它們之前的變化

      適用于面具。這可以避免在表達(dá)式，其他圖層或相機(jī)修改蒙版時(shí)出現(xiàn)延遲。

控制說明